光罩（photomask，中國稱「光掩模」）是半導體製程中最關鍵、也最容易被投資人忽略的一類耗材。2026 年 4 月，Citrini Research 分析師 Jukan 指出「HBM4 帶來一個過去不存在的光罩外包市場，日本廠商將成為最大贏家」；短短一週內，《首爾經濟日報》證實三星與 SK 海力士的光罩外包營收本季較去年同期翻倍。本文從光罩是什麼、HBM4 需要什麼樣的光罩、日本廠商為什麼獨佔鰲頭、到投資人可以怎麼參與，提供完整解析。
光罩是什麼
光罩是半導體晶片製造時用於「轉印電路圖案」到矽晶圓上的模板。它本質上是一片高精度的石英玻璃板，表面鍍有厚度數十奈米至百奈米的鉻金屬層，透過電子束微影機把設計好的電路圖案刻蝕在鉻層上。晶圓廠執行微影（lithography）步驟時，將光源穿過光罩，讓電路圖案在光阻材料（photoresist）上曝光顯影。
一顆先進製程的晶片從設計到量產，通常需要 30 片至 80 片以上的光罩。光罩是「一次性」的製程投資：一套完整光罩組可用來生產數百萬片晶圓，但每次產品規格改變（新製程節點、新產品設計）都需要重新製作整套光罩。這使光罩成為半導體製程中高壁壘、高毛利、但總量有限的利基市場。
光罩的技術等級與價格分級
光罩按製程節點分層，每一層的單價、技術門檻、競爭格局都完全不同：
技術等級 製程節點 單套價格 主要供應商 High-NA EUV 2nm 以下（2027+） 數千萬美元級 DNP、TOPPAN、Hoya（起步） EUV 3nm／5nm／7nm $200–500 萬美元 TSMC／Samsung 內部＋日本廠 DUV / ArF Immersion 14nm／28nm $50–200 萬美元 DNP、TOPPAN、Photronics 成熟製程 45nm 以上 $10–50 萬美元 Photronics、台灣光罩廠、中國廠
越先進製程的光罩越貴、越難做，競爭者也越少。EUV 以上層級幾乎由日本廠商 DNP、TOPPAN 與 Hoya 壟斷，配合 TSMC／Samsung／Intel 的內部光罩部門。成熟製程則有台灣光罩廠商與 Photronics 等國際業者分食。
HBM 是什麼，為什麼需要光罩
HBM（High Bandwidth Memory，高頻寬記憶體）是一種將多層 DRAM 晶片垂直堆疊、以 TSV（矽穿孔）垂直互連、搭配 base die（邏輯基底晶片）實現超高頻寬的記憶體規格。相較傳統 DDR5 DRAM 的單晶片結構，HBM 透過 3D 堆疊實現數倍至數十倍的頻寬，是驅動 AI GPU（Nvidia H100／H200／B100／B200）運算的關鍵元件。
HBM 製程涉及三類光罩：DRAM 晶片本體光罩、base die 邏輯晶片光罩、TSV 穿孔光罩。每顆 HBM 產品都是一套完整光罩組，而且隨著世代演進，光罩數量與精度要求同步升高。
HBM4 的技術突破與光罩新需求
HBM4 相較前代（HBM3E）有三項重大升級：
16-Hi 堆疊：從 12 層提升至 16 層，單顆 HBM4 容量達 48GB，帶寬突破 2TB/s
Base die 上邏輯節點：首次把 base die 做在 TSMC N3 等先進邏輯製程上，而非傳統 DRAM 製程 — 這讓記憶體控制器邏輯、PHY 速度與電源管理大幅提升
客製化設計：針對不同客戶（Nvidia、AMD、Broadcom、Google TPU）做專屬規格，不再是標準化產品
這三項升級都直接放大光罩需求：16-Hi 堆疊的 TSV 光罩要求更精密、base die 在 N3 邏輯節點需要 EUV 光罩、客製化設計意味著每個客戶要一套新的光罩組。HBM4 因此從「單純記憶體製造」轉為「邏輯＋記憶體混合精密製造」，光罩用量從 HBM3E 的數十片暴增至上百片。
為什麼三星與 SK 海力士啟動大規模外包
歷史上，記憶體廠自己做光罩 — 三星與 SK 海力士都有成熟的內部光罩部門，過去負責 DRAM、NAND 與 HBM3E 所需的光罩。轉向 HBM4 後，外包的驅動力來自兩個方向：
第一，Nvidia Rubin GPU 量產時程壓力。SK 海力士握有 HBM 市場 62% 份額，預計於 2026 下半年配合 Nvidia Vera Rubin 量產供貨；三星與美光則急於追趕。三家廠的 HBM4 部門同時向內部調集精密製造人才，尤其是能做 base die 邏輯節點光罩的資深工程師。
第二，光罩技術類別不同。HBM4 的 DRAM 光罩仍可由內部消化，但 base die（TSMC N3 等級）光罩需要 EUV／High-NA EUV 能力，記憶體廠的內部光罩部門原本擅長 DRAM 製程，對邏輯節點經驗不足。這部分自然流向日本專業光罩廠商。
結果就是 Jukan 所說的「過去不存在的新市場」— 記憶體廠主動釋出光罩訂單，外包對象是能做先進邏輯光罩的日本廠。Seoul Economic Daily 報導本季光罩外包營收較去年同期翻倍以上，確認量級。
日本光罩廠商的競爭優勢
DNP（Dai Nippon Printing，大日本印刷）與 TOPPAN Holdings 是日本兩大光罩製造商，兩者都具備百年印刷企業的精密製造基因。DNP 近期與 Tekscend 合作備戰 High-NA EUV 光罩、宣布 2027 年將供應日本新創 Rapidus 2 奈米製程光罩。TOPPAN（2023 年由 Toppan Inc 更名為 TOPPAN Holdings）的電子事業群同時涵蓋 TFT LCD、色彩濾光片、光罩與半導體封裝。
兩者的關鍵競爭優勢來自：(1) 日本長期投資光罩技術鏈、(2) 與 ASML 的 EUV／High-NA EUV 設備深度整合、(3) 與 TSMC、Samsung、Intel 的既有合作關係。韓國與台灣的光罩廠商多集中於成熟製程或 DUV，難以接手 HBM4 所需的邏輯節點訂單。
投資人如何參與這波趨勢
對日股投資人：直接標的為 7912.T（Dai Nippon Printing）與 7911.T（TOPPAN Holdings），另 Hoya（7741.T）也有光罩業務但以 EUV 光罩基板（photomask blanks）為主，非最終產品。兩者都在 2026 年初創下多年新高。進場前需留意：光罩外包是否能延續至 2027 年、非 EUV 訂單的毛利率壓力。
對台股投資人：無完全對標標的，但可從外圍受惠族群切入 — 光罩概念有易華電、維信-KY、同欣電等；ABF 載板與 HBM 封裝相關則有欣興、景碩、南電。台積電（2330）作為 HBM4 base die 的代工方亦間接受惠。台股光罩族群規模不及日本，且多集中於成熟製程。
對加密資產投資人：HBM4 與 AI GPU 直接決定下一代區塊鏈基礎設施（含 AI agent 執行、on-chain 推理、zk 運算）的硬體成本。本題材與 AI 吞噬全球創投 80%、Alcoa × NYDIG 挖礦設施等敘事共享底層邏輯：AI 算力需求遠超傳統半導體擴張週期。
產業鏈地圖：從光罩到最終應用
HBM4 產業鏈由下至上共五層：
光罩（Photomask）：DNP、TOPPAN、Hoya 供應給記憶體廠與晶圓代工
DRAM／邏輯晶圓：SK 海力士（62% 市占）、三星、美光、TSMC（base die 代工）
先進封裝（CoWoS／TSV）：TSMC、Amkor、ASE 日月光等
GPU／AI 加速器：Nvidia（H200／B200／Rubin）、AMD（MI400）、Broadcom（TPU 代工）
終端用戶：OpenAI、Anthropic、Google、Meta、中東主權基金資料中心
光罩位於最上游，單一環節異常會向下層傳導。日本光罩外包翻倍的訊息，等於是整個 AI 硬體投資週期的前哨訊號。
常見問題 FAQ
光罩和光刻膠有什麼差別？
光罩（photomask）是轉印電路圖案的模板，可以重複使用。光刻膠（photoresist）則是塗佈在矽晶圓表面、被光穿過光罩後產生化學變化的塗層，每片晶圓都要重新塗佈。兩者在製程中缺一不可，但屬於完全不同的供應鏈：光罩由 DNP、TOPPAN 等主導；光刻膠由日本 JSR、TOK 等廠主導。
HBM4 跟 HBM3E 差在哪？
HBM4 的三大差異：16 層堆疊（HBM3E 為 12 層）、base die 首次採用 TSMC N3 等邏輯製程（HBM3E 為 DRAM 製程）、客製化設計（HBM3E 為標準化）。這三點都推高光罩用量與複雜度，也讓 base die 光罩成為獨立的外包需求。
為什麼 DNP 不做 EUV 光罩而只做成熟製程？
這是常見誤解。DNP 實際上同時供應 DUV 與 EUV 光罩，並已於 2027 年將供應 Rapidus 2 奈米製程的 High-NA EUV 光罩。記憶體廠外包給 DNP 的部分以「較成熟製程」為主，是因為記憶體廠選擇把自家最稀缺的 EUV 人才留在 HBM4 核心、外包較不關鍵的部分。DNP 的 EUV 能力依然主要服務 TSMC、三星等晶圓代工大客戶。
Samsung 與 SK 海力士會永久外包嗎？
短期（2026–2027 年 Nvidia Rubin 量產週期）外包營收會持續放大；中期（2028 年後）則要看兩家廠的內部光罩部門能否回補產能。歷史上，韓國記憶體廠傾向把核心技術握在自己手上；但 HBM4 的 base die 在邏輯節點，與韓廠歷史擅長的 DRAM 光罩工序差異太大，因此不排除長期維持「記憶體廠＋日本光罩廠」的分工格局。
台灣光罩廠商能分食 HBM4 訂單嗎？
台灣光罩廠目前多集中於 28nm 以上成熟製程，技術與產能規模不及 DNP 與 TOPPAN。但若外包量持續放大、日本廠產能不足，台廠有機會承接溢出訂單。投資人可關注光罩廠 2026 下半年財報的「半導體應用」分部成長率，作為首發訊號。
High-NA EUV 是什麼？跟 HBM4 的關係是？
High-NA EUV 是 ASML 2026 年開始量產的新一代微影機，數值孔徑（Numerical Aperture）從 0.33 提升至 0.55，可支援 2 奈米以下製程。HBM4 的 base die 本身尚未使用 High-NA EUV（N3 節點仍為傳統 EUV 即可），但 HBM5／HBM6 以後的 base die 將逐步切換。DNP、TOPPAN 正在投資 High-NA EUV 光罩能力以因應 2027–2028 年的市場。
這篇文章 HBM 光罩完整解析：為什麼 HBM4 讓日本 DNP、TOPPAN 成最大贏家（2026） 最早出現於 鏈新聞 ABMedia。
